基板の洗浄・乾燥処理方法並びにその処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：間宮武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-140086
公開番号（公開出願番号）：特開平6-326073
出願日： 1993年05月17日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：

【要約】【目的】基板を純水で洗浄した後その基板表面を乾燥させる処理において、基板表面へのパーティクルの付着を少なくし、基板を特に加熱したりしなくて基板表面を速やかに乾燥させる。【構成】純水を洗浄槽12内へその底部から供給しその上部から溢れ出させて洗浄槽内部に純水の上昇水流を形成し、その上昇水流中に基板を浸漬させて洗浄する。洗浄後、基板を純水中から露出させ、その際に水溶性でかつ基板に対する純水の表面張力を低下させる作用を有する有機溶剤の蒸気を基板の周囲へ供給する。その後に、密閉チャンバ16内を排気し基板の周囲を減圧して基板を乾燥させる。

請求項（抜粋）：

洗浄槽内へその底部から純水を連続して供給し洗浄槽の上部からその純水を溢れ出させて洗浄槽内部において純水の上昇水流を形成し、この純水の上昇水流によって基板を洗浄する工程と、前記基板を前記洗浄槽内の純水中から露出させる工程と、前記基板の周囲を減圧して基板を乾燥させる工程とからなり、少なくとも前記した純水中からの基板の露出工程において、水溶性でかつ基板に対する純水の表面張力を低下させる作用を有する有機溶剤の蒸気を前記基板の周囲へ供給するようにする基板の洗浄・乾燥処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 351 , H01L 21/304 341 , B08B 3/10 , F26B 5/04

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平2-291128
特開平4-080924
特開昭62-054443

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審査官引用 (5件)

特開平4-080924
特開平2-291128
特開平4-354129

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