特許
J-GLOBAL ID：200903085975023967
ガス供給装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
富澤 孝 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-243874
公開番号（公開出願番号）：特開平7-074113
出願日： 1993年09月02日
公開日（公表日）： 1995年03月17日
要約：
【要約】【目的】 常温常圧では液化しやすいプロセスガスを加熱保温しながら、所定量正確に供給するためのガス供給装置を提供すること【構成】 ガス供給装置は、常温常圧で液化しやすいジクロールシランFを供給するガス供給装置であって、ジクロールシランFの質量流量を計測しながら所定の質量流量の気体を通過させる質量流量計付電磁弁53と、質量流量計付電磁弁の53入力ポートと接続する入力ブロック10と、入力ブロック10に付設される入力開閉弁52と、質量流量計付電磁弁53の出力ポートと接続する出力ブロック11と、出力ブロック11に付設される出力開閉弁54と、入力ブロック10および出力ブロック11に埋設された棒状ヒータ14,15とを有する。
請求項（抜粋）：
常温常圧で液化しやすい気体を供給するガス供給装置において、前記供給される気体の質量流量を計測しながら、所定の質量流量の気体を通過させる質量流量計付電磁弁と、前記質量流量計付電磁弁の入力ポートと接続する入力ブロックと、前記入力ブロックに付設される入力開閉弁と、前記質量流量計付電磁弁の出力ポートと接続する出力ブロックと、前記出力ブロックに付設される出力開閉弁と、前記入力ブロックおよび前記出力ブロックに埋設された棒状ヒータとを有することを特徴とするガス供給装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, F16K 27/00
, F16K 31/06 305
