特許
J-GLOBAL ID：200903085981376286
マイクロ突起物アレイおよびマイクロ突起物の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-562213
公開番号（公開出願番号）：特表2004-524172
出願日： 2002年02月05日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：
複数の連続したプラズマ並びにウェット等方性および異方性エッチングのステップによって、マイクロ突起物アレイを、シリコンウェーハから形成する。得られるマイクロ突起物(14)は、ウェット等方性エッチングによって形成された鋭利な先端(18)またはカッティングされた端を有し、各マイクロ突起物は、凹面を有する各側面(16)を備えた実質的に角錐の形状を有する。各マイクロ突起物の先端は、ベース(12)と平行に延びる実質的に平坦な上面(20)を有する。
請求項（抜粋）：
上面と底面とを有する基板を提供するステップと、
パターン化されたマスキング層を前記上面上の複数の領域に形成するステップであって、前記パターン化されたマスキング層の前記領域は、マイクロ突起物に対応する所定の寸法を有し、前記マスキング層の前記領域の周囲の前記基板の前記上面の露出領域を規定するステップと、
前記基板の前記上面の前記露出領域を、複数のマイクロ突起物を形成するのに十分な深さまでエッチングするステップと、
前記基板から前記マスキング層を除去して、前記マイクロ突起物を露出させるステップと、
を含むことを特徴とするマイクロ突起物アレイの形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
4C167AA66
, 4C167BB02
, 4C167BB70
, 4C167CC05
