特許

J-GLOBAL ID：200903085986757601

超微粒子分散材料の作製方法

発明者： 大塚 俊介 ,  小山 正 ,  永田 久雄 ,  田中 修平
出願人/特許権者： 日本板硝子株式会社
代理人 (1件)： 大野 精市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-261603
公開番号（公開出願番号）：特開平5-096154
出願日： 1991年10月09日
公開日（公表日）： 1993年04月20日
要約：

【要約】【構成】 第1過程として酸素雰囲気中でSiO粉末にレーザー光を照射し、石英基板上にSiO2(ガラス)膜を作製する。第2過程としてArガス雰囲気中でレーザー光をCdTe多結晶ウェハに照射し、超微粒子を凝集のない状態で前記SiO2(ガラス)上に付着させる。第1過程と第2過程とを繰り返し行うことによってCdTe超微粒子分散ガラスが作製できる。【効果】 粒子の大きさが数nm〜数10nmの範囲で、かつ粒子同士の凝集が無く、高濃度に微粒子を分散した分散材料が、短時間でかつ容易に作製できる。また、超微粒子の作製をマトリックスとは独立に作製することができるため、超微粒子の結晶性の制御および粒度分布の制御が可能である。

請求項（抜粋）：

超微粒子の原料となる材料を不活性ガス中でレーザ加熱蒸発し、該蒸気が不活性ガスとの衝突で急速に冷却されることにより、該原料の超微粒子を合成して基板上に付着させることと、マトリックスの原料となる材料をレーザ加熱蒸発することによりマトリックスを基板上に形成することとを、交互に行うことにより、マトリックス中に超微粒子を均一分散させることを特徴とする超微粒子分散材料の作製方法。

IPC (3件)：

B01J 19/12 ,  C03C 17/34 ,  G02F 1/35 505