特許
J-GLOBAL ID：200903085989736818
フォトマスクブランクおよびフォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-092251
公開番号（公開出願番号）：特開平8-286359
出願日： 1995年04月18日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：
【要約】【目的】低応力の遮光膜を形成することにより、フォトマスクの特にパターンの位置精度が優れた高品質なフォトマスクを、高生産性でしかも安定して得られるフォトマスクブランクおよびフォトマスクを提供する。【構成】透明基板上に設けた遮光膜が非結晶性をなし、好ましくは遮光膜の主成分が金属クロムであること、そして窒素を所定の組成で含有したクロムを成膜材料源として遮光膜を形成することを特徴とし、またこれらからなるフォトマスクであることをを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透明基板上に遮光膜を有し、該遮光膜をなす材料が非結晶性であることを特徴とするフォトマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 G
, H01L 21/30 502 P
