特許

J-GLOBAL ID：200903085993167666

スパツタリング装置

発明者： 木ノ切 恭治 ,  加藤 直樹
出願人/特許権者： 株式会社芝浦製作所
代理人 (1件)： 大胡 典夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-240797
公開番号（公開出願番号）：特開平5-078834
出願日： 1991年09月20日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：

【要約】【目的】 膜厚均一性の良いスパッタリング膜を堆積可能にするスパッタリング装置を提供する点。【構成】 本発明に係わるスパッタリング装置においては、CD用ディスクの中心部と端部に、非成膜部を設けるためにマスクが不可欠であり、その形状は、中央円形部、外周環状部及びこれを支える縦横の橋絡部を設置していた。縦横橋絡部のためにスパッタリング工程で生ずる影の問題が避けられなかった。この問題を解消すると共に、ターゲットまたはバッキングプレートから冷却を伴ったマスクカソードを、基板に接して配置し、基板とターゲット間方向に沿った方向にマスクを形成する方式を採用する。この結果、スバッタリング工程による膜の効率効率が向上し、従来より10%〜15%増のターゲットライフが得られ、影の問題も解消する。

請求項（抜粋）：

蒸発材料から成るターゲットと,前記ターゲットに対向して配置する基板と,前記ターゲットに重ねるバッキングプレートと,前記バッキングプレートに設ける冷却機構と,前記バッキングプレートに隣接して配置する磁界装置と,前記ターゲット及び基板に隣接して形成するスパッタリング領域と,前記ターゲット、基板及びスパッタリング領域を囲んで配置するアノード領域と,前記ターゲットに接続しかつ、これに対応する前記基板に接して形成するマスクカソードを具備することを特徴とするスパッタリング装置

IPC (2件)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/35

引用特許：

審査官引用 (2件)

• スパツタリング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-240796   出願人：株式会社芝浦製作所
• 特開平4-231462