特許

J-GLOBAL ID：200903086008189479

レリーフパターンの設けられた基板、その基板の製造法、プラズマディスプレイパネルのバリアリブの製造法

発明者： 向 郁夫 ,  須藤 鉄也 ,  板垣 勝俊 ,  丹野 清吉 ,  勝谷 康夫
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-044717
公開番号（公開出願番号）：特開平11-250796
出願日： 1998年02月26日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 パネル全面で欠陥のない高精細、高品位なバリアリブを得、生産性よく製造する。【解決手段】 レリーフパターンとレリーフパターンの間隙の基板の表面をXMA(X-ray Micro Analysis)で分析して表面から炭素成分が検出されないレリーフパターンの設けられた基板、基板上に感光性樹脂組成物を使用したフォトリソグラフ法によりレリーフパターンを設けるレリーフパターンの設けられた基板の製造法、又はレリーフパターンとレリーフパターンの間隙にバリアリブ形成材料を埋込み、次いでレリーフパターンを除去し焼成することにより基板上にバリアリブを形成するプラズマディスプレイパネルのバリアリブの製造法において、現像後又はバリアリブ形成材料を埋込む前にレリーフパターンとレリーフパターンの間隙を流速50〜1000cm/秒の高速噴射流体で洗浄する。

請求項（抜粋）：

レリーフパターンとレリーフパターンの間隙の基板の表面をXMA(X-ray Micro Analysis)で分析して表面から炭素成分が検出されないレリーフパターンの設けられた基板。

IPC (6件)：

H01J 9/02 ,  B24C 1/04 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01J 9/38 ,  H01J 11/02 ,  H01J 17/16

FI (6件)：

H01J 9/02 F ,  B24C 1/04 C ,  G02F 1/1333 500 ,  H01J 9/38 A ,  H01J 11/02 B ,  H01J 17/16