特許

J-GLOBAL ID：200903086008236698

電極形成方法

発明者： 河村 義裕 ,  白嵜 友之
出願人/特許権者： カシオ計算機株式会社
代理人 (1件)： 杉村 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-272875
公開番号（公開出願番号）：特開平10-102237
出願日： 1996年09月25日
公開日（公表日）： 1998年04月21日
要約：

【要約】【課題】 蒸着マスクがアスペクト比に左右されず、蒸着マスクを用いても金属電極間の隙間を狭く形成できるようにする。【解決手段】 透明基板上に透明電極を介して形成された有機発光層上に、蒸着マスク11を用いて帯状の金属電極を形成する際、蒸着マスク11に円形状の多数の小孔13を所定間隔S1で配列形成し、この蒸着マスク11を小孔13の配列方向に対し直交する方向に移動させながら蒸着する。このため、蒸着マスク11に円形状の小孔13を所定間隔S1で形成するだけで良く、従来の蒸着マスクのように細長いスリット孔を形成する必要がないため、蒸着マスク11の加工性が良いばかりか、従来のスリット孔を形成する場合に比べてアスペクト比に左右されず、機械的強度に対する不安も少ないので、蒸着マスク11の厚さを薄くすることができ、これにより従来のものよりも小孔13間の間隔S1を狭くでき、金属電極間の隙間を狭くできる。

請求項（抜粋）：

蒸着マスクを用いて帯状の電極を蒸着により配列形成する電極形成方法において、前記蒸着マスクに複数の小孔を所定間隔で配列形成し、この蒸着マスクを前記小孔の配列方向に対し交差する方向に移動させながら蒸着することを特徴とする電極形成方法。

IPC (5件)：

C23C 14/04 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/26 ,  H05K 3/14 ,  G02F 1/155

FI (5件)：

C23C 14/04 A ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/26 ,  H05K 3/14 A ,  G02F 1/155