特許
J-GLOBAL ID：200903086009444154
高純度コバルトの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
並川 啓志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-080831
公開番号（公開出願番号）：特開平8-253888
出願日： 1995年03月14日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：
【要約】【目的】 タ-ゲット材料等の用途に適したNi、Fe等の不純物を最小限しか含まない5N(99.999%)レベル以上の高純度コバルトを安定してかつ容易に製造できる方法を開発する。【構成】 少なくともFe及び/又はNiを不純物として含有し、塩酸濃度が7〜12Nの塩化コバルト水溶液を、陰イオン交換樹脂と接触させコバルトを吸着させた後、1〜6Nの塩酸を用いてコバルトを溶離し、得られた溶離液を蒸発乾固又は濃縮した後、pH=0〜6の高純度塩化コバルト水溶液とし、該水溶液を電解液として電解精製により電析コバルトを作製し、必要に応じ更に該電析コバルトを真空溶解することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
少なくともFe及び/又はNiを不純物として含有し、塩酸濃度が7〜12Nの塩化コバルト水溶液を、陰イオン交換樹脂と接触させコバルトを吸着させた後、1〜6Nの塩酸を用いてコバルトを溶離し、得られた溶離液を蒸発乾固又は濃縮した後、pH=0〜6の高純度塩化コバルト水溶液とし、該水溶液を電解液として電解精製により電析コバルトを得ることを特徴とする高純度コバルトの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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