特許

J-GLOBAL ID：200903086017467872

磁気抵抗効果型ヘツドの製造方法

発明者： ▲高▼野 公史 ,  鈴木 幹夫 ,  森脇 英稔 ,  由比藤 勇 ,  小山 直樹 ,  北田 正弘 ,  中谷 亮一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-227818
公開番号（公開出願番号）：特開平5-067314
出願日： 1991年09月09日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：

【要約】【目的】磁気抵抗効果型ヘッドの再生特性の安定化。【構成】磁気抵抗効果素子12上の少なくとも一部に交換結合膜13が形成されている磁気抵抗効果型ヘッドを、交換結合膜13を形成した後に磁気抵抗効果素子12の磁化容易方向と同一方向の外部磁界を印加しながら交換結合膜13のネール点以上に加熱する。【効果】再生波形歪のない磁気抵抗効果型ヘッドを実現することができる。

請求項（抜粋）：

磁気抵抗効果素子上の少なくとも一部に磁気抵抗効果素子との間で磁気的な交換結合を引き起こす反強磁性膜が形成されている磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、前記反強磁性膜が形成された後、前記磁気抵抗効果素子の磁化容易方向と同一方向の外部磁界を印加した状態で前記反強磁性膜のキュリー点以上の温度まで一度昇温した後、室温まで徐々に冷却することを特徴とする磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法。