特許

J-GLOBAL ID：200903086021285223

露光装置および露光方法ならびにデバイス製造方法

発明者： 太田 和哉
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-094317
公開番号（公開出願番号）：特開2000-286191
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】 像のディストーションや誤差を補正して、露光精度を向上させることのできる露光装置および露光方法ならびにデバイス製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 露光装置のレチクルホルダRHにレチクル表面変形機構RTを備え、投影光学系を介してウエハ上に転写される像のディストーションを計測手段で計測し、その計測結果に基づいて、レチクルホルダRHで保持したレチクルRのパターン面の、ディストーションが生じている部分で吸着ピン37を駆動させ、レチクルRをZ軸方向に変形させる構成とした。

請求項（抜粋）：

反射型のマスクに形成されたパターンを露光光で照明し、前記マスク側においては非テレセントリックである投影光学系を介して基板上に転写する露光装置であって、前記マスクを保持する保持機構に、前記マスクのパターン面側を部分的に変形させる変形手段が備えられていることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503

FI (3件)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 531 M

Fターム (28件)：

2H097BB10 ,  2H097CA15 ,  2H097EA01 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046CB02 ,  5F046CB17 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC09 ,  5F046CC16 ,  5F046CC18 ,  5F046DA05 ,  5F046DA13 ,  5F046DB01 ,  5F046DC12 ,  5F046EB02 ,  5F046EB03 ,  5F046GA03 ,  5F046GA06 ,  5F046GA12 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01 ,  5F046GC03 ,  5F046GD10