特許
J-GLOBAL ID:200903086025106021
高分子膜に光学異方性を付与する方法、そのための装置および光学異方性媒体
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中島 淳 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-012140
公開番号(公開出願番号):特開2001-201634
出願日: 2000年01月20日
公開日(公表日): 2001年07月27日
要約:
【要約】【課題】 高い光学異方性を有する高分子膜を簡明な方法で提供すること、そのための装置を提供すること、また前記方法で得られる高い光学異方性を有する高分子膜を備えた光学異方性媒体を提供すること。【解決手段】 光異性化基あるいは光異性化分子が、光によって異性化した後熱戻り反応によって異性化しうるT(thermal)型フォトクロミック性を有する高分子膜に偏光を照射することにより前記高分子膜に光学異方性を付与する方法において、前記方法は、前記高分子膜に偏光を照射する工程と、偏光を遮断し放置する工程の連続する2つの工程を有し、前記2つの工程の少なくとも1つの工程において、前記高分子膜に対し、熱戻り反応によって誘起される前記光異性化基あるいは光異性化分子の配向を増強するための温度制御を行うことを特徴とする高分子膜に光学異方性を付与する方法。
請求項(抜粋):
分子中に光異性化基を含む高分子膜または光異性化分子を含む高分子膜であって、該光異性化基あるいは光異性化分子が、光によって異性化した後熱戻り反応によって異性化しうるT(thermal)型フォトクロミック性を有する高分子膜に偏光を照射することにより前記高分子膜に光学異方性を付与する方法において、前記方法は、前記高分子膜に偏光を照射する工程と、偏光を遮断し放置する工程の連続する2つの工程を有し、前記2つの工程の少なくとも1つの工程において、前記高分子膜に対し、熱戻り反応によって誘起される前記光異性化基あるいは光異性化分子の配向を増強するための温度制御を行うことを特徴とする高分子膜に光学異方性を付与する方法。
IPC (7件):
G02B 5/30
, C08G 63/193
, C08J 7/00 CFD
, C08J 7/00 301
, C08J 7/00 302
, G03H 1/04
, C08L 67:00
FI (7件):
G02B 5/30
, C08G 63/193
, C08J 7/00 CFD
, C08J 7/00 301
, C08J 7/00 302
, G03H 1/04
, C08L 67:00
Fターム (25件):
2H049BA06
, 2H049BA42
, 2H049BC01
, 2H049BC05
, 2H049BC09
, 2K008AA04
, 2K008BB01
, 2K008BB04
, 2K008DD12
, 2K008EE01
, 4F073AA14
, 4F073BA23
, 4F073BB01
, 4F073CA53
, 4F073GA01
, 4J029AA01
, 4J029AB01
, 4J029AC01
, 4J029AD09
, 4J029AE03
, 4J029AE04
, 4J029BE05A
, 4J029BF14A
, 4J029CB05B
, 4J029KH01
引用特許:
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