特許
J-GLOBAL ID：200903086037166186
マイクロ波励起プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-269451
公開番号（公開出願番号）：特開平11-111495
出願日： 1997年10月02日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：
【要約】【課題】 大型の被処理物に対応した大型のチャンバにおいて、プラズマを均一に発生することが可能なマイクロ波励起プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 上部にプラズマ生成室が形成され、このプラズマ生成室の下方に被処理部材を処理する処理室が形成されたチャンバと、プラズマ生成室内に処理ガスを供給するためのガス供給管と、チャンバの上壁部の開口に配置された開口孔を有する金属板と、金属板上に配置された誘電体窓と、誘電体窓を含むチャンバの上壁部に対向して配置され、誘電体窓にマイクロ波を伝播させる開口を形成した矩形状の導波管と、マイクロ波を発振するマイクロ波発振器とを有する。
請求項（抜粋）：
上部にプラズマ生成室が形成され、このプラズマ生成室の下方に被処理部材を処理する処理室が形成されたチャンバと、前記プラズマ生成室内に処理ガスを供給するためのガス供給管と、前記チャンバの上壁部の開口に配置された開口孔を有する金属板と、前記金属板上に配置された誘電体窓と、前記誘電体窓を含む前記チャンバの上壁部に対向して配置され、前記誘電体窓にマイクロ波を伝播させる開口を形成した矩形状の導波管と、マイクロ波を発振するマイクロ波発振器とを有することを特徴とするマイクロ波励起プラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, C23F 4/00
, H01L 21/027
, H01L 21/3065
H05H 1/46 B
, C23F 4/00 A
, H01L 21/30 572 A
, H01L 21/302 B
, H01L 21/302 H
