特許
J-GLOBAL ID:200903086037954311
パターン検査方法とパターン検査装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
森本 義弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-042439
公開番号(公開出願番号):特開2000-241136
出願日: 1999年02月22日
公開日(公表日): 2000年09月08日
要約:
【要約】【課題】 高精度で高速に回路パターンを自動検査するパターン検査方法とパターン検査装置を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明のパターン検査装置は、被対象基板1の被検査パターン画像を出力する撮像変換手段16と、被検査パターン画像を水平,垂直方向に段数遅延させるラインディレイ4と、被対象基板1の設計データに基づいて作成された基準パターン画像を水平,垂直方向に段数遅延させる基準画像用ラインディレイ6と、被対象基板1に被検査パターンとともに形成した既知の距離の基準マーク11の間隔に基づいて被対象基板1の伸縮に関する補正値を演算し、ラインディレイ4と基準画像用ラインディレイ6の適切な遅延段数を補正値に基づいて設定する遅延段数設定手段17と、基準パターン画像と被検査パターン画像とを比較して差画像を出力するALU7と、差画像に基づいて被検査パターンの欠陥個所を検出する欠陥検出手段18とを設けたものである。
請求項(抜粋):
基板に形成された被検査パターンを検査するに際し、前記基板に被検査パターンを形成する工程で既知の距離の基準マークを形成し、前記処理後の基板の基準マークの間隔に基づいて前記基板の伸縮に関する補正値を演算し、前記基板の設計データに基づいて作成された基準パターン画像と前記基板の被検査パターン画像との比較を前記補正値に基づいて補正して照合し被検査パターンを検査するパターン検査方法。
FI (2件):
G01B 11/24 F
, G01B 11/24 K
Fターム (30件):
2F065AA03
, 2F065AA49
, 2F065AA56
, 2F065BB02
, 2F065BB27
, 2F065CC01
, 2F065DD06
, 2F065EE00
, 2F065EE02
, 2F065FF01
, 2F065FF04
, 2F065JJ02
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ19
, 2F065JJ25
, 2F065JJ26
, 2F065MM03
, 2F065MM22
, 2F065PP12
, 2F065QQ03
, 2F065QQ04
, 2F065QQ11
, 2F065QQ12
, 2F065QQ13
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065QQ31
, 2F065RR08
, 2F065TT07
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