特許
J-GLOBAL ID：200903086064587207
レーザビーム輝度形状再形成方法およびビーム成形装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-298441
公開番号（公開出願番号）：特開平6-214186
出願日： 1993年11月29日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：
【要約】【目的】 簡易な方法によりレーザビームのガウス型輝度形状の再配分を行なう方法および、ガウス型輝度形状を補正するためのビーム成形装置を提供する。【構成】 ガウス型輝度分布形状を有するガウスビームの輝度再配分方法は、感光性素材をレーザプリント装置に露光し、この感光性素材上にレーザプリント装置で所望のパターンを書き込み、露光書き込みされた感光性素材をガウスビームに挿入してガウスビームのガウス型輝度形状を平坦化する、というステップを含む。ビーム成形装置20は、レーザ19からビームを受光してそのビームを視準するための視準レンズ42と、視準された光ビーム21を受けてこれのガウス型輝度形状を一次元についてだけ平坦化するためのアポダイザ40と、これを通過したビームを受光してライン走査方向に拡がったビームを生成するための成形オプティクス44を含む。
請求項（抜粋）：
光ビームを生成するためのレーザ光源と、前記レーザ光源から光ビームを受光して視準光ビームを生成するための視準レンズと、前記視準光ビームを受けて、この視準ビームのガウス型輝度形状を一次元方向にのみ平坦化するためのアポダイザと、前記アポダイザからのビームを受光し、ライン走査方向に広がったビームを生成するための成形オプティクスと、を含むビーム成形装置。
IPC (3件)：
G02B 27/00
, G02B 26/10
, G02B 26/10 102
