レジストパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉原省三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-083838
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275514
出願日： 1993年03月19日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：

【要約】【目的】密集した微細なレジストパターン、或いは高アスペクトなレジストパターンがそのパターン倒れなしに形成できるレジストパターン形成方法を提供せんとするものである。【構成】所望のパターンを露光したレジスト2の現像後、リンスを行い、そのリンス液5を切らないうちに、感光々を全面照射した上、最後に乾燥させて、レジストパターン2aを完成させる。

請求項（抜粋）：

レジストに対して所望のパターンを露光し、該レジストを現像した後、リンスすると共に、リンス液を乾燥させてレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法において、前記現像処理とリンス処理の間に、又はリンス処理中に、液中でレジストの強度を上げる処理を行うことを特徴とするレジストパターン形成方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/40 501

FI (2件)：

H01L 21/30 361 L , H01L 21/30 361 P

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭62-031122
特開昭56-078836
特開昭56-078837

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