特許
J-GLOBAL ID：200903086075611789
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-322421
公開番号（公開出願番号）：特開2000-149249
出願日： 1998年11月12日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：
【要約】【課題】 化学強化処理後のガラス基板の強度や平面性を、表面性の改善した磁気ディスク用ガラス基板とその製造方法、及びこれを用いた磁気ディスクを提供する【解決手段】 ガラス基板を溶融塩に浸漬して化学強化処理することによって生じた基板表面の凹凸を、スクラブ洗浄処理を行って除去することによって、基板の反りや平面度低下させることなく、また基板の強度を実質的に低下させることなく平滑化する。
請求項（抜粋）：
ガラス素材をガラス基板に成形する工程と、前記ガラス基板の表面を研磨加工する工程と、表面研磨された前記基板を溶融塩に浸漬してイオン交換による化学強化処理を行う工程と、前記化学強化処理後の前記ガラス基板表面の凹凸を除去するようにスクラブ洗浄処理を行うことにより前記基板表面のRaを1nm未満、Ryを10nm未満、且つ平面度を5μm未満にする工程とを有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
5D006CB04
, 5D006CB07
, 5D006DA03
, 5D006EA03
, 5D006FA05
, 5D112AA02
, 5D112BA03
, 5D112GA02
, 5D112GA08
, 5D112GA09
, 5D112GA28
