特許

J-GLOBAL ID：200903086105558780

投影露光装置

発明者： 谷口 哲夫 ,  辻 寿彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-032247
公開番号（公開出願番号）：特開平8-227847
出願日： 1995年02月21日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：

【要約】【目的】 レチクル上の基準パターンを使用することなく投影光学系の倍率誤差や像歪等を正確に検出する。【構成】 レチクルステージ4A上のレチクルRの走査方向に設けられた助走区間25に複数の基準マークを形成した基準板23を設ける。走査方向に平行に並んだ2つの基準マークの投影光学系PLを介したそれぞれの像の結像位置をウエハステージWST上の光透過部22が横切るようにウエハステージWSTを移動させ、2つの基準マークの結像位置をレーザ干渉計10で測定する。2つの基準マークの結像位置の間隔M1及び予め精密に測定された2つの基準マーク同士の間隔M2から走査方向の倍率(M1/M2)を中央制御系16で算出し、結像特性制御系17を介して結像特性を補正する。

請求項（抜粋）：

露光用の照明光でマスクステージ上のマスクを照明し、前記マスク上のパターンを投影光学系を介して感光基板上に投影する投影露光装置において、前記マスクステージ上又は前記パターンと光学的にほぼ共役な位置に設けられ、複数個の基準マークが形成された基準マーク部材と、前記露光用の照明光と同じ波長域の照明光のもとで、前記複数個の基準マークの内の少なくとも1つの基準マークの投影像の位置を検出する像位置検出手段と、該像位置検出手段の検出結果に基づいて前記投影光学系の結像特性を求める演算手段と、該演算手段により求められた結像特性に基づいて前記投影光学系の結像特性を補正する補正手段と、を設けたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 ,  G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 525 C ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 B