特許

J-GLOBAL ID：200903086112115851

シアリング干渉測定方法及びシアリング干渉計、投影光学系の製造方法、投影光学系、及び投影露光装置

発明者： 劉 志強
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 古谷 史旺
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-221765
公開番号（公開出願番号）：特開2003-302205
出願日： 2002年07月30日
公開日（公表日）： 2003年10月24日
要約：

【要約】【課題】 光源側の外乱や収差の影響を受けずに測定することの可能なシアリング干渉測定方法を提供する。【解決手段】 光源から射出した測定光束(L)をに分割して互いに波面のずれた2光束(L1,L2)を生成すると共に、それら2光束(L1,L2)をその波面のずれた状態で被検物(PL)に投光し、被検物(PL)を経由した2光束(L1,L2)の波面が重なり合う位置(3)に生起する干渉縞を検出する。光束L1の波面に重畳されているノイズ波面と光束L2の波面に重畳されているノイズ波面とは丁度重なり合うが、光束L1に重畳されている信号波面と光束L2に重畳されている信号波面とはずれる。よって、光源側の外乱や収差の影響を受けない測定が可能となる。

請求項（抜粋）：

光源から射出した測定光束を分割して互いに波面のずれた2光束を生成すると共に、それら2光束をその波面のずれた状態で被検物に投光し、前記被検物を経由した前記2光束の波面が重なり合う位置に生起する干渉縞を検出することを特徴とするシアリング干渉測定方法。

IPC (5件)：

G01B 9/02 ,  G01J 9/02 ,  G01M 11/02 ,  G01N 21/45 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G01B 9/02 ,  G01J 9/02 ,  G01M 11/02 B ,  G01N 21/45 A ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (32件)：

2F064AA15 ,  2F064CC01 ,  2F064DD08 ,  2F064EE08 ,  2F064GG21 ,  2F064GG22 ,  2F064GG33 ,  2F064GG38 ,  2F064GG49 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064LL13 ,  2G059BB08 ,  2G059BB10 ,  2G059BB16 ,  2G059DD13 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF01 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ20 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059MM09 ,  2G059NN06 ,  2G086HH06 ,  5F046BA04 ,  5F046CB21 ,  5F046DA12