特許

J-GLOBAL ID：200903086115444546

ポジ型レジスト組成物

発明者： 上西 一也 ,  丹 史郎 ,  藤森 亨 ,  児玉 邦彦 ,  白川 浩司
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-336369
公開番号（公開出願番号）：特開2001-075284
出願日： 1999年11月26日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：

【要約】【課題】 高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができしかもPCD、PED安定性に優れたポジ型電子線又はX線レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 放射線の照射により酸を発生する化合物、及びカチオン重合性の機能を有する化合物を含有するポジ型電子線又はX線レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(b)カチオン重合性の機能を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (15件)：

2H025AA03 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BC12 ,  2H025BC17 ,  2H025BC23 ,  2H025BC37 ,  2H025BC38 ,  2H025BC49 ,  2H025BC83 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025CA48 ,  2H025FA12