特許
J-GLOBAL ID：200903086129102524
光導波路およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-287340
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140620
出願日： 1992年10月26日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：
【要約】【目的】 電子回路,光回路を一つの基板上にモノリシックに集積化することが可能で、さらに導波路層を多層化形成させた、高機能でコンパクトな光導波路およびその製造方法を提供することを目的としている。【構成】 シリコン基板1上に、酸化シリコン層2を有し、その上に光導波層3aを有する光導波路において、光導波層のさらに上部の一部分に、端部が傾斜状に形成された低屈折率層4を有し、さらにその上部を含む全面に下部の光導波層と同じ屈折率を有する層3bをオーバーコートした構造を有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
シリコン基板上に、酸化シリコン層を有し、その上に光導波層を有する光導波路において、光導波層のさらに上部の一部分のみに、端部が傾斜状に形成された低屈折率層を有し、さらにその上部を含む全面に下部の光導波層と同じ屈折率を有する層をオーバーコートした構造を有することを特徴とする光導波路。
IPC (2件)：
引用特許：
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