特許
J-GLOBAL ID：200903086133354295
アクティブマトリクス型液晶表示装置及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
開口 宗昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-333035
公開番号（公開出願番号）：特開平11-231347
出願日： 1998年11月24日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】 画素電極と配線がオーバーラップする構造のTFT(薄型トランジスタ)基板において、高透過率、高耐熱性の層間積層膜を効率的に生産する方法、及びそのようなTFT(薄型トランジスタ)基板を有するアクティブマトリクス型液晶表示装置を提供する。【解決手段】 層間絶縁膜の少なくとも一部に有機膜を形成してこれをウェットエッチング法によりパターニングし、この有機膜パターンをマスクとしたドライエッチング法により下地をパターニングする。有機膜の材料としてベンゾシクロブテンポリマー、又はポリシラザン化合物、又はカルド型化合物とエポキシ基とを有する化合物との重合体、又はアクリル系樹脂を用いる。
請求項（抜粋）：
画素電極と配線がオーバーラップする構造のTFT(薄型トランジスタ)基板の層間絶縁膜を形成する工程において、前記層間絶縁膜の少なくとも一部に有機膜を形成してこれをパターニングし、得られた有機膜パターンをマスクとして下地のパターニングを行うことを特徴とするアクティブマトリクス型液晶表示装置の製造方法。
IPC (4件)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/1333 505
, H01L 29/786
, H01L 21/336
G02F 1/136 500
, G02F 1/1333 505
, H01L 29/78 612 D
, H01L 29/78 619 A
