特許
J-GLOBAL ID:200903086149711950
ノズル
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 三雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-129835
公開番号(公開出願番号):特開2000-318754
出願日: 1999年05月11日
公開日(公表日): 2000年11月21日
要約:
【要約】【課題】 狭い場所でシリコン等を充填することを可能とし、或は容易且奇麗に充填することが可能な器具を提供する。【解決手段】 固定管上部に別途形成する射出部を嵌合して設けるノズルであって、固定管の中心線に対し射出部の中心線を適宜の角度に設定が可能なる如く形成する。
請求項(抜粋):
固定管上部に別途形成する射出部を嵌合して設けるノズルであって、固定管の中心線に対し射出部の中心線を適宜の角度に設定が可能なる如く形成したことを特徴とするノズル。
IPC (5件):
B65D 47/06
, B05B 3/00
, B05C 5/02
, B65D 83/00
, B43M 11/00
FI (5件):
B65D 47/06 H
, B05B 3/00
, B05C 5/02
, B43M 11/00 A
, B65D 83/00 D
Fターム (29件):
3E014KA09
, 3E084AA03
, 3E084AA12
, 3E084AB06
, 3E084BA02
, 3E084CA01
, 3E084CB02
, 3E084CC03
, 3E084CC04
, 3E084DA01
, 3E084DB12
, 3E084DC03
, 3E084DC04
, 3E084FA09
, 3E084FB01
, 3E084GA04
, 3E084GB04
, 3E084LC01
, 3E084LC10
, 3E084LD01
, 4F033PA04
, 4F033PB09
, 4F033PD01
, 4F041AA16
, 4F041AB01
, 4F041BA12
, 4F041BA17
, 4F041CB12
, 4F041CB44
前のページに戻る