特許
J-GLOBAL ID:200903086151297711

真空用モータのステータ

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-131446
公開番号(公開出願番号):特開2004-336928
出願日: 2003年05月09日
公開日(公表日): 2004年11月25日
要約:
【課題】ガス放出速度を安定して小さくするとともに、皮膜形成時の処理液が残留せず、真空環境を汚染することのない真空用モータを得る。【解決手段】本発明の真空用モータのステータは、フレーム1と、ステータコア2に巻回されたコイル3と、コイルをモールドしたモールド樹脂4とからなり、フレーム1の内側にモールド樹脂を接触させた状態で配置したもので、モールド樹脂とフレームとの接触面の外周に沿って弾性体6を設けたものである。この弾性体をOリングとしてもよく、また、弾性体をシール用の樹脂でモールドしてもよい。また、シール用の樹脂の真空雰囲気にさらされる面を金属皮膜で被覆してもよい。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
フレームと、ステータコアに巻回されたコイルと、前記コイルをモールドしたモールド樹脂とからなり、前記フレームの内側にモールド樹脂を接触させた状態で配置した真空用モータのステータにおいて、 前記モールド樹脂と前記フレームとの接触面の外周に沿って弾性体を設けたことを特徴とする真空用モータのステータ。
IPC (2件):
H02K3/32 ,  H02K41/02
FI (2件):
H02K3/32 ,  H02K41/02 A
Fターム (15件):
5H604BB01 ,  5H604BB11 ,  5H604CC05 ,  5H604CC11 ,  5H604DA02 ,  5H604DA15 ,  5H604DB02 ,  5H604PB04 ,  5H641BB19 ,  5H641GG02 ,  5H641GG04 ,  5H641GG08 ,  5H641GG11 ,  5H641GG12 ,  5H641HH08

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