反応処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：秋田収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-215433
公開番号（公開出願番号）：特開平8-078336
出願日： 1994年09月09日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】反応室内に混合ガスを供給する混合ガス供給管内で原料ガスを均一に混合することにより、反応室内の結晶基板表面に均一・均質な薄膜を形成する。【構成】結晶基板を収容する反応室1に複数の原料ガスを混合状態で供給する混合ガス供給管7には、特定のガスを供給する複数の特定ガス供給管9が接続されている。また、反応室よりの特定ガス供給管と反応室との間の混合ガス供給管内には、複数の混合板25が所定間隔で配設されている。各混合板には複数のスリット26が設けられるとともに、スリットの延在方向は隣接する混合板同士では異なり、原料ガスの混合化が図られる。特定ガス供給管では、上流側では分子量の大きいガスを供給し、下流に向かうにつれて分子量の小さいガスが供給され、より一層原料ガスの均一化が図られる。

請求項（抜粋）：

被処理物を収容する反応室と、前記反応室に複数の原料ガスを混合状態で供給する混合ガス供給管と、前記混合ガス供給管に接続されかつ所望の特定のガスを前記混合ガス供給管に供給する複数の特定ガス供給管とを有する反応処理装置であって、前記混合ガス供給管の内部に配置されかつ前記ガスを通過させるガス通過孔を1つ以上有する混合板が少なくとも1つ設けられていることを特徴とする反応処理装置。

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