デトネーション・スプレー・ガンのガス供給システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青山葆 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-510534
公開番号（公開出願番号）：特表2001-515958
出願日： 1997年09月11日
公開日（公表日）： 2001年09月25日
要約：

【要約】デトネーション噴射ガンのガス噴射システムは、燃焼ガスまたは他の不活性添加物(例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム等)の供給部に関して機械的な閉鎖バルブまたはシステムを具備していない。一方、ガスまたは添加物は、独立した通路の組を介してデトネーション・チャンバー(1)に直接的に、独立して供給される。通路の1つはオキシダントのためのものであり、少なくとも1つの別の通路は燃料のためのものであり、各通路は膨張チャンバー(8)、ならびに小さな断面および/または長い長さを有する複数の分配導管(9)を含む。各通路の膨張チャンバー(8)は対応する供給ライン(4)と直接に連絡しており、一方、分配導管(9)は複数のガス噴出ポイントが燃焼チャンバー(1)の内側表面にて開放するように好都合に配置されて、連続的かつ独立したガスの供給を複数のポイントでもたらし、それにより燃焼チャンバー(1)において直接的で均一な燃焼混合物を確保し、各デトネーションサイクルにおいてチャンバー(1)を満たすのに十分な流れをもたらす。

請求項（抜粋）：

燃焼において活性なガス、あるいは窒素、アルゴン、ヘリウムまたはそれに類似するもののような他の不活性な添加物を供給する、バルブまたは機械的なシーリング装置を有しない類のデトネーション・スプレー・ガンにおけるガス供給システムであって、ガスまたは添加物を、独立した通路の組を介して、直接的に独立してデトネーション・チャンバー(1)に供給することを特徴とし、通路の1つはオキシダント(oxidant;または酸化剤)のためのものであり、少なくとも1つの他の通路は燃料のためのものであり、各通路は、膨張チャンバー(8)、ならびに小さな断面および/または大きい長さの複数の分配導管(9)から成り、それにより、分配導管(9)の壁と供給ラインに向かって該導管を経由して進行するデトネーション波のガスとの間の熱伝達が、ガスを冷却して混合物の発火温度よりも低い温度にするのに十分なほど大きくなり、その結果、続くサイクルにおいて、ガスがデトネーション・チャンバー(1)内へ戻るときに、それらはデトネーション生成物と後続の燃焼性混合物との間で熱バリアーとして作用し、各通路の膨張チャンバー(8)は対応する供給ライン(4)に直接的に連絡しており、一方、分配導管(9)は複数のガス噴出ポイントが燃焼チャンバー(1)の内側表面に開くように都合良く配置されており、その結果、燃料の混合物が直接的かつ均一に燃焼チャンバー(1)で形成されることを確保する、連続的で独立したガスの供給が、複数のポイントで生じ、また、各デトネーション・サイクルで十分な流れがチャンバー(1)を満たすガス供給システム

IPC (2件)：

C23C 4/00 , B05B 7/20

FI (2件)：

C23C 4/00 , B05B 7/20

Fターム (23件)：

4F033QA07 , 4F033QB02Y , 4F033QB03Y , 4F033QB12Y , 4F033QB13Y , 4F033QB14X , 4F033QC07 , 4F033QD03 , 4F033QE13 , 4F033QE23 , 4F033QF12Y , 4F033QF15Y , 4K031AB08 , 4K031AB09 , 4K031CB08 , 4K031CB09 , 4K031CB14 , 4K031CB39 , 4K031CB41 , 4K031DA01 , 4K031DA06 , 4K031EA01 , 4K031EA07

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平1-167226
特開昭62-273067
特開昭61-078455

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