特許

J-GLOBAL ID：200903086178984672

マスクROMのプログラム化製造方法

発明者： 汪 炳穎 ,  張 瑞欽 ,  楊 俊儀 ,  林 春榮 ,  王 明宗
出願人/特許権者： 旺宏電子股▲ふん▼有限公司
代理人 (1件)： 國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-254657
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085537
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】 パターン形成パラメータ領域を増大する。【解決手段】 マスクAを得て、マスクAのパターンをプログラムコードAに転換し、0と1が交錯するプログラムコードであるデコードBを設定し、プログラムコードAとデコードBとをリンクさせてプログラムコードCを得て、プログラムコードAとデコードBのインバーションコードB′とをリンクさせてプログラムコードDを得て、プログラムコードCによってマスクCを作成し、プログラムコードDによってマスクDを作成し、マスクCとマスクDとを重ね合わすことによって、マスクAを単独で使用して露光した場合と同様の結果を得て、2組のパターンが平均化したマスクC及びマスクDを得て、パターン形成パラメータ領域を増大させる。

請求項（抜粋）：

以下の1〜8のステップを含み、1.マスクAを得るステップ2.マスクAのパターンをプログラムコードAに転換するステップ3.0と1が交錯するプログラムコードであるデコードBを設定するステップ4.プログラムコードAとデコードBとをリンクさせてプログラムコードCを得るステップ5.プログラムコードAとデコードBのインバーションコードB′とをリンクさせてプログラムコードDを得るステップ6.プログラムコードCによってマスクCを作成するステップ7.プログラムコードDによってマスクDを作成するステップ8.マスクCとマスクDとを重ね合わすことによって、マスクAを単独で使用して露光した場合と同様の結果を得るステップ2組のパターンが平均化したマスクC及びマスクDを得て、パターン形成パラメータ領域を増大させることを特徴とするパターン形成パラメータ領域の増大方法。

IPC (4件)：

H01L 21/8246 ,  H01L 27/112 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 27/10 433 ,  G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (3件)：

2H095BB02 ,  2H095BB36 ,  5F083CR02