特許

J-GLOBAL ID：200903086186830790

化学除染方法およびその装置

発明者： 高橋 陵太 ,  酒井 仁志
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-276023
公開番号（公開出願番号）：特開平10-123293
出願日： 1996年10月18日
公開日（公表日）： 1998年05月15日
要約：

【要約】【課題】 耐腐食性の低い材料の腐食を抑制し、かつ酸化皮膜に対する還元溶解速度を増大させて従来と同程度以上の除染性能を保持し、さらに二次廃棄物量の減容が可能な化学除染方法とその装置を提供する。【解決手段】 本発明の方法では、除染対象物上の酸化皮膜を還元溶解する工程において、還元剤として有機酸とその塩との混合物を使用し、水溶液系の水素イオン濃度を抑制しながら還元溶解を行なう。また本発明の装置は、除染対象物を含みヒーター、pH測定計等を具備した除染ループと、除染ループに還元剤等を注入する薬注ポンプと、イオン交換樹脂塔を含む金属イオン回収ループと、電解槽および/または紫外線照射セルを含む還元剤分解ループと、除染液を各ループに循環させる循環ポンプと、除染液が循環するループを切り替える複数の開閉バルブとを備えている。

請求項（抜粋）：

除染対象物上の汚染物質を含む酸化皮膜を、還元剤により還元し水溶液中に溶解させる還元溶解工程と、前記還元溶解工程で溶出した金属イオンを回収する回収工程と、前記還元剤の過剰量を分解する還元剤分解工程と、酸化剤により前記酸化皮膜を酸化する酸化処理工程とを備えた化学除染方法において、前記還元溶解工程において、還元剤として、還元性の有機酸とその塩との混合物を使用し、これらの水溶液中の水素イオン濃度を抑制しながら還元溶解を行なうことを特徴とする化学除染方法。

IPC (2件)：

G21F 9/28 525 ,  G21F 9/28 ZAB

FI (2件)：

G21F 9/28 525 D ,  G21F 9/28 ZAB