特許

J-GLOBAL ID：200903086190682371

露光装置

発明者： 中 西 淑 人 ,  佐 藤 健 夫 ,  青 木 新 一 郎
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 蔵合 正博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-058055
公開番号（公開出願番号）：特開平5-259025
出願日： 1992年03月16日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：

【要約】【目的】 パターン設計や製造、検査工程の負担を軽減し、高分解能、高コントラストな像を得ること。【構成】 光源1からでた露光光は、照明光学系2を介してレチクル3を照明し、レチクル3によって回折される。回折された回折光は、0次光6、+1次光7、-1次光8となって投影レンズ4に入射し、投影レンズ4の入射瞳位置にそれぞれ光源像9,10,11となって集光する。集光した回折光のうち0次光だけを空間フィルター12で遮光して、+1次光7、-1次光8だけをウェハー上5に導く。露光される像は0次光を遮光しない場合の像よりも2倍の空間周波数をもち、コントラストも高いので、高分解能、高コントラストな像が得られる。

請求項（抜粋）：

露光パターンが描かれたレチクルをコヒーレンシィを有する露光光により照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンをウェハー上に縮小投影する投影レンズと、前記投影レンズ内に設けられて前記レチクルのパターンから回折した回折光のうち0次光だけを選択的に遮光する手段とを備え、前記レチクルのパターンのウェハー上への投影を前記0次光以外の次数の回折光を用いて行なう露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 311 S