特許

J-GLOBAL ID：200903086199258319

レーザマーキング方法および装置

発明者： 津田 幸宏 ,  山崎 卓 ,  森 彰
出願人/特許権者： 株式会社小松製作所
代理人 (1件)： 橋爪 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-034419
公開番号（公開出願番号）：特開平6-226476
出願日： 1993年01月29日
公開日（公表日）： 1994年08月16日
要約：

【要約】【目的】 ワークへのレーザマーキングを行うに際し、刻印マークをマスクに分割表示させてマーキングを行う場合に特に有効で、刻印精度を向上させるとともに、分割合成による刻印作業を簡易に行わせる。【構成】 マーキングパターンを表示可能なマスクにレーザ発振器からのレーザ光を第1偏向器により走査させてレーザ光を選択透過させた後、当該マスクの透過光を第2偏向器により偏向してワーク表面にマーキング照射するレーザマーキングする際、マスクには前記第1偏向器による1走査ラインに相当する分割パターンを順次連続して表示させ、第1偏向器による各分割パターンの1走査透過光毎に前記第2偏向器によるワーク表面への偏向位置をパターン分割方向に移動させてパターン合成刻印をなすようにした。

請求項（抜粋）：

マーキングパターンを表示可能なマスクにレーザ発振器からのレーザ光を第1偏向器により走査させてレーザ光を選択透過させた後、当該マスクの透過光を第2偏向器により偏向してワーク表面にマーキング照射するレーザマーキング方法において、前記マスクには前記第1偏向器による1走査ラインに相当する分割パターンを順次連続して表示させ、第1偏向器による各分割パターンの1走査透過光毎に前記第2偏向器によるワーク表面への偏向位置をパターン分割方向に移動させてパターン合成刻印をなすことを特徴とするレーザマーキング方法。

IPC (6件)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  B41J 2/44 ,  G02F 1/13 505 ,  H01S 3/101