特許
J-GLOBAL ID：200903086212769190
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-086101
公開番号（公開出願番号）：特開2001-076315
出願日： 2000年03月27日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：
【要約】【課題】 従来の薄膜磁気ヘッドでは、上部コア層及び下部コア層を単層で形成していたが、この構造では、高記録密度化・高記録周波数化に対応可能な薄膜磁気ヘッドを製造することはできなかった。【解決手段】 上部コア層42の軟磁性層22の上面に前記軟磁性層22の比抵抗ρよりも高い比抵抗ρを有する高比抵抗層40を形成する。これにより、記録周波数が上昇することにより発生する渦電流による損失を低減させることができ、今後の高記録周波数化に対応可能な薄膜磁気ヘッドを製造することができる。
請求項（抜粋）：
ギャップ層を介して対面し、またはギャップ層とこのギャップ層に接合された他の磁極層を介して対面する下部コア層および上部コア層と、前記両コア層に記録磁界を与えるコイル層とを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、少なくとも一方の前記コア層は、軟磁性層と、前記コア層の下面側及び/または上面側で前記軟磁性層に積層された高比抵抗層との少なくとも2層で形成されており、前記高比抵抗層は前記軟磁性層よりも高比抵抗の磁性材料で形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Fターム (3件)：
5D033BA03
, 5D033BA08
, 5D033DA04
