ポジ型フォトレジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-005795
公開番号（公開出願番号）：特開平6-214395
出願日： 1993年01月18日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：

【要約】【目的】遠紫外線(エキシマーレーザー等を含む)を光源として用いる露光領域において、耐熱性、残膜率、密着性及びプロファイル等の諸性能を維持したまま、感度及び解像度に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】アルカリ可溶性樹脂、溶解阻止剤及び光酸発生剤を含むポジ型フォトレジスト組成物であって、上記アルカリ可溶性樹脂がp-ビニルフェノールもしくはその誘導体とスチレンとの共重合体を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、溶解阻止剤および光酸発生剤を含むポジ型フォトレジスト組成物であって、上記アルカリ可溶性樹脂がp-ビニルフェノールもしくはその誘導体とスチレンとの共重合体を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 501 , C08F212/14 MJY , C09D125/18 PFB , G03F 7/004 501 , G03F 7/031 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開平3-107163
特開平4-211258
特開平3-206458

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