特許

J-GLOBAL ID：200903086218529140

ゲル法シリカの製造方法

発明者： 高菅 和宏 ,  赤崎 忠行
出願人/特許権者： 日本シリカ工業株式会社
代理人 (1件)： 本多 小平 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-016795
公開番号（公開出願番号）：特開平8-208215
出願日： 1995年02月03日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：

【要約】【目的】 カラム充填剤,濾過助剤等として有用な、例えば、粒子破壊の起き難い高い粒子強度を有するゲル法シリカの製造方法を提供する。【構成】 ケイ酸アルカリと鉱酸を反応させ、水洗した後のシリカヒドロゲルからゲル法シリカを製造する方法において、上記シリカヒドロゲルを含水量10wt%以下に乾燥させる第1工程、該第1工程により得られたシリカの含水量を15〜80%に調整する第2工程、該15〜80%に含水量が調整されたシリカを更に含水量10wt%以下にする第3工程を行うことで、カラム充填剤,濾過助剤等として有用な高い粒子強度を有するゲル法シリカの細孔容積を確実かつ安定して制御できる方法を提供する。

請求項（抜粋）：

ケイ酸アルカリと鉱酸を反応させ、水洗した後のシリカヒドロゲルからゲル法シリカを製造する方法において、上記シリカヒドロゲルを含水量10wt%以下に乾燥させる第1工程、該第1工程により得られたシリカの含水量を15〜80%に調整する第2工程、該15〜80%に含水量が調整されたシリカを更に含水量10wt%以下にする第3工程、を行うことを特徴とするゲル法シリカの製造方法。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭61-040810