特許
J-GLOBAL ID:200903086223368341
露光装置及びその焦点検出方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
恩田 博宣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-182887
公開番号(公開出願番号):特開2000-021711
出願日: 1998年06月29日
公開日(公表日): 2000年01月21日
要約:
【要約】【課題】 投影光学系の露光視野内において最も厳密な合焦を必要とする位置と多点AF系の計測点とが離間している場合にも、精確な多点AF系の合焦動作を確保でき、高精度の露光が可能な露光装置及びその焦点検出方法を提供する。【解決手段】 ウエハステージ上に、多点斜入射方式の合焦機構の仮想的な基準面のZ方向位置を計測するための平面基準板71を設ける。その平面基準板71に発光性の開口マーク72を設け、その開口マーク72に前記基準面の較正を行うための焦点較正機構を光学的に接続する。焦点較正機構によりレチクルで反射され戻ってくる開口マーク72の像を検出し最適結像面のZ方向位置を計測し、その計測結果に基づいて前記基準面の較正を行う。そして、その開口マーク72を投影光学系の投影視野IF内の任意の位置に配置しても、前記平面基準板71の表面上に必ず前記合焦機構の第1計測点AFijが存在するように構成する。
請求項(抜粋):
マスク上のパターンを基板上に投影転写するための投影光学系と、その基板を前記投影光学系の光軸と交差するように保持するとともに前記光軸に対して交差する平面内及び前記投影光学系の光軸に沿う方向に移動可能な基板ステージとを備えた露光装置において、前記投影光学系の投影視野を含む所定の領域内の予め定められた位置に第1計測点を有し、その第1計測点での前記投影光学系の光軸に沿う方向における位置を検出する第1焦点検出手段と、前記所定の領域内の前記第1計測点とは異なる位置の第2計測点での前記投影光学系の光軸に沿う方向における結像面の位置を検出する第2焦点検出手段とを備え、その第2焦点検出手段は前記投影光学系及び所定のパターンを通過する通過光束を検出する光量検出系を備え、前記基板ステージ上には、前記第1計測点における前記第1焦点検出手段の位置検出の基準となる基準面を計測するための基準計測面と、前記第2焦点検出手段の所定のパターンを有する平面基準板とを設け、前記第1計測点は前記第2計測点に前記所定のパターンを一致させたときに前記基準計測面内に存在するように配置した露光装置。
IPC (4件):
H01L 21/027
, G01B 11/00
, G03F 7/20 521
, G03F 7/207
FI (4件):
H01L 21/30 526 A
, G01B 11/00 A
, G03F 7/20 521
, G03F 7/207 H
Fターム (31件):
2F065AA02
, 2F065AA03
, 2F065AA06
, 2F065BB02
, 2F065CC20
, 2F065FF01
, 2F065FF51
, 2F065GG03
, 2F065GG05
, 2F065GG12
, 2F065HH05
, 2F065HH12
, 2F065JJ24
, 2F065LL02
, 2F065LL04
, 2F065LL12
, 2F065LL13
, 2F065PP12
, 2F065PP23
, 2F065UU07
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CA02
, 5F046CA03
, 5F046CA04
, 5F046CC03
, 5F046CC05
, 5F046CC16
, 5F046DA14
, 5F046DB01
, 5F046DB05
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