特許

J-GLOBAL ID：200903086224036105

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 河辺 保雅 ,  山中 司
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-033621
公開番号（公開出願番号）：特開2001-222110
出願日： 2000年02月10日
公開日（公表日）： 2001年08月17日
要約：

【要約】【課題】 露光光源として遠紫外線、特にKrFエキシマレーザー光を用いた場合、現像欠陥の問題を生じず、しかも半導体製造プロセス上、安定性の優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、(C)分子量が1000以下のカルボン酸無水物、(D)含窒素塩基性化合物、並びに(E)フッ素系及び/又はシリコン系活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、(C)分子量が1000以下のカルボン酸無水物、(D)含窒素塩基性化合物、並びに(E)フッ素系及び/又はシリコン系活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (42件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB03 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  4J002AA031 ,  4J002BC121 ,  4J002EB007 ,  4J002EL136 ,  4J002EN137 ,  4J002EQ017 ,  4J002ER028 ,  4J002EU028 ,  4J002EU048 ,  4J002EU078 ,  4J002EU118 ,  4J002EU138 ,  4J002EU148 ,  4J002EU187 ,  4J002EU227 ,  4J002EU238 ,  4J002EV217 ,  4J002EV237 ,  4J002EV297 ,  4J002EW177 ,  4J002EY007 ,  4J002EZ007 ,  4J002FD207 ,  4J002FD319 ,  4J002GP03