特許

J-GLOBAL ID：200903086243965664

可撓性保護メッシュ構造を有する不正侵入感応カプセル封止エンクロージャ

発明者： ドナルド・エス・ファーカー ,  クローディアス・フィージャー ,  ヴォイヤ・マーコヴィッチ ,  コンスタンチノス・アイ・パパトマス ,  マーク・ディ・ポリクス ,  ジェーン・エム・ショウ ,  ジョージ・セーパロウィッチュ ,  スティーブ・エイチ・ワインガート
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-369492
公開番号（公開出願番号）：特開2002-229857
出願日： 2001年12月04日
公開日（公表日）： 2002年08月16日
要約：

【要約】【課題】 集積回路構造と、集積回路構造を囲むメッシュ構造と、メッシュ構造を囲む密閉エンクロージャとを含む不正侵入感応電子回路エンクロージャを形成する構造および方法を提供すること。【解決手段】 メッシュ構造は、第1の側と第2の側とを有する可撓性誘電体の層と、第1の側に第1の抵抗器網を形成する可撓性導電性の第1の回路線のスクリーン・プリント・パターンと、第2の側に第2の抵抗器網を形成する可撓性導電性の第2の回路線のフォトリソグラフィ形成パターンとを含む。

請求項（抜粋）：

第1の側と第2の側とを有する可撓性誘電体の層と、前記第1の側の第1の抵抗器網を形成する可撓性導電性の第1の回路線のスクリーン・プリント・パターンと、前記第2の側の第2の抵抗器網を形成する可撓性導電性の第2の回路線のフォトリソグラフィ形成パターンとを含む、不正侵入感応電子回路製品。

IPC (2件)：

G06F 12/14 320 ,  G06F 12/14

FI (2件)：

G06F 12/14 320 D ,  G06F 12/14 320 A

Fターム (4件)：

5B017AA03 ,  5B017BA08 ,  5B017BB03 ,  5B017CA16