パターン形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森本義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-309525
公開番号（公開出願番号）：特開平5-142414
出願日： 1991年11月26日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：

【要約】【目的】液晶ディスプレイのカラーフィルタなどの製造の際に、後工程での平坦化処理が容易にできる平滑な表面を得る。【構成】離型層12を有する転写用ガラス基板11上に一旦印刷法でカラーパターン13およびブラックマトリクス14のパターンを形成し、その後パターンの検査を行い、良品のみをガラス基板16上に紫外線硬化樹脂などの接着層15を介して転写用ガラス基板上に形成する。【効果】従来法ではカラーフィルターの歩留りがRGBおよびブラックマトリクスの各パターン形成時での歩留りの積となるが、本発明では良品のみをガラス基板上に転写されるため歩留りの向上がはかれる。また、離型層からの転写により表面の平坦性に優れたパターンを形成することができる。

請求項（抜粋）：

離型層を表面に有する転写用基板上にパターンを形成する工程と、前記パターンを前記離型層を有する転写用基板から被転写基板上へ転写する工程からなることを特徴とするパターン形成方法。

IPC (2件)：

G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 505

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