特許

J-GLOBAL ID：200903086260535002

低酸素の不活性ガス雰囲気を有する半田付け装置

発明者： 平田 利雄 ,  服部 隆司 ,  神崎 登
出願人/特許権者： 大阪アサヒ化学株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 ハルミ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-254720
公開番号（公開出願番号）：特開平6-190547
出願日： 1991年09月04日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：

【要約】【目的】 不活性ガスの雰囲気中で半田付けを行う半田付け装置に特定の設備を配設することによって、不活性ガスの使用量が少なくても半田付け装置内、特に半田付けゾーンを低酸素濃度に保持でき、半田付け不良の発生を防止する。【構成】 予熱ゾーンと半田付けゾーンとの間および半田付けゾーンと冷却ゾーンとの間に仕切板を配設することによって、特に半田付けゾーンから不活性ガスの流出を抑制するとともに半田付けゾーンへの空気の流入も抑制して溶融半田の酸化を防止する。

請求項（抜粋）：

搬入された処理物を予熱するための予熱ゾーンと処理物を半田付け処理するための半田付けゾーンと半田付けされた処理物を搬出するための冷却ゾーンを備え、これらのゾーンを貫通して処理物を搬送する設備を有する不活性ガス雰囲気中で処理物に半田付けを行う装置において、予熱ゾーンと半田付けゾーンとの間および半田付けゾーンと冷却ゾーンとの間に、小さくとも処理物とその搬送設備が通る大きさの開口部を設けた仕切板を配設したことを特徴とする低酸素の不活性ガス雰囲気を有する半田付け装置。

IPC (8件)：

B23K 1/008 ,  B23K 31/02 310 ,  B23K 31/02 ,  C23C 2/08 ,  C23C 2/10 ,  C23C 2/34 ,  H05K 3/34 ,  H01L 21/52

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-274868
  
• 特開平4-274867
  
• 特開平3-008564