特許
J-GLOBAL ID:200903086261170458

酸化ビスマスガラスおよびそれを製造するプロセス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-501581
公開番号(公開出願番号):特表2006-518325
出願日: 2004年01月23日
公開日(公表日): 2006年08月10日
要約:
【課題】応用分野に応じた必要条件が改善されている酸化ビスマスを含むガラス、およびガラスを製造する適切なプロセスを開示すること。【解決手段】本発明は、ビスマス酸化物およびゲルマニウム酸化物の添加物を含み、B2O3およびSiO2の含有量が0.1モル%より多く、かつ5モル%未満であるガラスに関する。本発明は、また、前記ガラスの製造に適する方法に関する。本発明のガラスは特に希土類をドープしたときに、光学活性なガラスとして使用することができる。
請求項(抜粋):
酸化ビスマスガラスであって、酸化物含有量基準のモル%で、 Bi2O3 10〜80 GeO2 ≧1 B2O3+SiO2 ≧0.1かつ<5 他の酸化物 18.9〜88.9 を含む酸化ビスマスガラス。
IPC (9件):
C03C 4/12 ,  C03C 3/253 ,  C03C 3/062 ,  C03C 3/064 ,  C03C 3/066 ,  C03C 3/068 ,  C03C 13/04 ,  G02B 6/00 ,  H01S 3/05
FI (9件):
C03C4/12 ,  C03C3/253 ,  C03C3/062 ,  C03C3/064 ,  C03C3/066 ,  C03C3/068 ,  C03C13/04 ,  G02B6/00 376A ,  H01S3/05
Fターム (115件):
2H050AB05Z ,  2H050AB06Z ,  2H050AB07Z ,  2H050AB09Z ,  2H050AB18X ,  2H050BD03 ,  4G062AA06 ,  4G062BB01 ,  4G062BB10 ,  4G062CC04 ,  4G062CC10 ,  4G062DA01 ,  4G062DA02 ,  4G062DA03 ,  4G062DB01 ,  4G062DB02 ,  4G062DB03 ,  4G062DB04 ,  4G062DC01 ,  4G062DC02 ,  4G062DC03 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DE02 ,  4G062DE03 ,  4G062DE04 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA02 ,  4G062EA03 ,  4G062EA04 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EB02 ,  4G062EB03 ,  4G062EB04 ,  4G062EC01 ,  4G062EC02 ,  4G062EC03 ,  4G062EC04 ,  4G062ED01 ,  4G062ED02 ,  4G062ED03 ,  4G062ED04 ,  4G062EE01 ,  4G062EE02 ,  4G062EE03 ,  4G062EE04 ,  4G062EF01 ,  4G062EF02 ,  4G062EF03 ,  4G062EF04 ,  4G062EG01 ,  4G062EG02 ,  4G062EG03 ,  4G062EG04 ,  4G062FA01 ,  4G062FB01 ,  4G062FC01 ,  4G062FD02 ,  4G062FD03 ,  4G062FD04 ,  4G062FD05 ,  4G062FD06 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FK02 ,  4G062FK03 ,  4G062FK04 ,  4G062FL01 ,  4G062FL02 ,  4G062FL03 ,  4G062GA04 ,  4G062GA05 ,  4G062GA06 ,  4G062GA07 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH02 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH06 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK02 ,  4G062KK03 ,  4G062KK04 ,  4G062KK05 ,  4G062KK06 ,  4G062KK07 ,  4G062KK08 ,  4G062KK10 ,  4G062MM02 ,  4G062NN20 ,  5F172AE12 ,  5F172AF03 ,  5F172AM08
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 国際公開第01/55041号明細書
  • 国際公開第00/23392号明細書
  • 欧州特許出願公開第1180835号明細書
審査官引用 (1件)

前のページに戻る