特許
J-GLOBAL ID:200903086261197038
マイクロレンズの製造方法、マイクロレンズ、マイクロレンズアレイ板、電気光学装置及び電子機器
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-129252
公開番号(公開出願番号):特開2004-070282
出願日: 2003年05月07日
公開日(公表日): 2004年03月04日
要約:
【課題】比較的容易に非球面のマイクロレンズを製造する。【解決手段】透明基板(210)上に、エッチングレートが透明基板より高い第1膜(220)を形成する工程と、形成すべきマイクロレンズ(500)の中心に対応する個所に穴(612a)が開けられたマスク(612)を第1膜上に形成する工程と、第1膜及び透明基板を、マスクを介してウエットエッチングすることでマイクロレンズの曲面を規定する非球面の凹部を透明基板に掘る工程とを含む。【選択図】 図12
請求項(抜粋):
基板上に所定種類のエッチャントに対するエッチングレートが前記基板と異なる第1膜を形成する工程と、
形成すべきマイクロレンズの中心に対応する個所に穴が開けられたマスクを前記第1膜上に形成する工程と、
前記マスクを介してウエットエッチングすることで、前記マイクロレンズの曲面を規定する非球面の凹部を前記基板に掘る工程と
を含むことを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (7件):
2H091FA29X
, 2H091FB07
, 2H091FC26
, 2H091FD13
, 2H091GA13
, 2H091LA12
, 2H091LA16
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