特許

J-GLOBAL ID：200903086291396752

アクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路

発明者： 森田 正樹 ,  林田 茂 ,  田谷 昌人
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-176760
公開番号（公開出願番号）：特開平8-041337
出願日： 1994年07月28日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：

【要約】【目的】 耐熱性に優れ、かつ光スイッチングや変調等の光信号処理に優れたアクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路を提供する。【構成】 フッ素化ポリアミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学材料が一般式(I)【化1】(式中、Rは水素原子又は電子吸引性基を示し、Aは電子吸引性基を示し、Dは電子供与性基を示す)で表される化合物であるアクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路。

請求項（抜粋）：

フッ素化ポリアミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学材料が一般式(I)【化1】(式中、Rは水素原子又は電子吸引性基を示し、Aは電子吸引性基を示し、Dは電子供与性基を示す)で表される化合物であるアクティブ光導波路用組成物。

IPC (6件)：

C08L 79/08 LRB ,  C08K 5/3442 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13 ,  G02F 1/03 501 ,  G02F 1/313

FI (2件)：

G02B 6/12 J ,  G02B 6/12 M

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-251564
  
• 特開平4-009807
  
• 特開平3-055529