特許

J-GLOBAL ID：200903086296995310

磁性材料膜及びその製造方法

発明者： 若村 正人 ,  山田 光隆
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 柏谷 昭司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-218236
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064725
出願日： 1996年08月20日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】 磁性材料膜及びその製造方法に関し、磁性材料膜の飽和磁束密度BS及び保磁力HC の双方を高くする。【解決手段】 金属結晶微粒子の粒子径の小さな磁性材料膜2と、粒子径の大きな磁性材料膜3とを交互に積層させて磁性材料膜を構成する。

請求項（抜粋）：

金属結晶微粒子の粒子径の小さな磁性材料膜と、粒子径の大きな磁性材料膜とを交互に積層させたことを特徴とする磁性材料膜。

IPC (4件)：

H01F 10/16 ,  G11B 5/66 ,  G11B 5/858 ,  H01F 41/26

FI (4件)：

H01F 10/16 ,  G11B 5/66 ,  G11B 5/858 ,  H01F 41/26