特許
J-GLOBAL ID:200903086303464325

高周波加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 粟野 重孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-303569
公開番号(公開出願番号):特開平7-161462
出願日: 1993年12月03日
公開日(公表日): 1995年06月23日
要約:
【要約】【目的】 昇圧トランスを有する高周波加熱装置において、昇圧トランスのプリント基板への取り付けを確実かつ容易にし、また、高圧回路から低圧回路への短絡を起こしにくくし、安全性の向上を図る。【構成】 昇圧トランス1のリッツ線からなる1次巻線2に導電性材料からなる二股の形状を持つ1次巻線端子21a,21bを設け前記1次巻線2を圧着する構成とした。また、前記昇圧トランス1に4次巻線25を設け、4次巻線25に導電性材料による二股の形状を持つ4次巻線端子26a,26bを設ける構成とした。さらに、前記昇圧トランス1の1次巻線2を接続する第1のプリント基板22と前記昇圧トランス1の2次巻線3と3次巻線4を接続する第2のプリント基板23を有し、ボビン5に導電性材料からなる二股の形状をもつ端子を設け、前記端子により第1のプリント基板22と第2のプリント基板23との電気的接続を行う構成とした。
請求項(抜粋):
少なくとも3つの巻線と、前記巻線を巻き付けるボビンと、高透磁率材料からなるコアを有し、1次巻線としてリッツ線を用い、前記1次巻線に導電性材料からなる1次巻線端子を設けた昇圧トランスを有する高周波加熱装置。
IPC (2件):
H05B 6/64 ,  H01F 30/00

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