特許

J-GLOBAL ID：200903086303877557

投影露光装置及び光強度分布の測定方法

発明者： 村山 正幸
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-076905
公開番号（公開出願番号）：特開平10-270340
出願日： 1997年03月28日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、投影レンズへ入射する照明光による影響をなくしつつ、高精度な光強度分布測定を達成する【解決手段】 上記問題点の解決のための本願発明の露光装置では、マスク(R)上のパターンの像を投影光学系(L)を介して感光基板(W)上に投影する露光装置において、投影光学系の像面側の所定面内を移動しながら、感光基板上を照明する照明光の光強度分布を測定する光電変換手段(10)と、感光基板の露光面とほぼ共役な位置に置かれ、前記感光基板上の照明領域を規定する遮光手段(4)とを備え、光強度分布を測定するときに、遮光手段によって規定される照明領域が光強度分布の測定範囲よりも小さくなるように、光電変換手段の移動に合わせて遮光手段を制御する制御手段(15)とを有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

マスク上のパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に投影する露光装置において、前記投影光学系の像面側の所定面内を移動しながら、前記感光基板上を照明する照明光の光強度分布を測定する光電変換手段と、前記感光基板の露光面とほぼ共役な位置に置かれ、前記感光基板上の照明領域を規定する遮光手段とを備え、前記光強度分布を測定するときに、前記遮光手段によって規定される照明領域が前記光強度分布の測定範囲よりも小さくなるように、前記光電変換手段の移動に合わせて前記遮光手段を制御する制御手段とを有する投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 C ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-211813