特許
J-GLOBAL ID：200903086321915873
アライメント系を備える露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮川 貞二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-020882
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209029
出願日： 1997年01月21日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 計測時間、ステージの移動時間のロスなしに高精度の位置合わせと、基板の焦点方向の位置を正確に設定することのできる露光装置を提供する。【解決手段】 ステージ201と;主焦点検出系145と;第1〜第3アライメント光学系131〜133からの出力に基づき基板を保持するステージの位置を制御するステージ制御系と;第1〜第3アライメント光学系の光軸方向における被検面と基板との相対位置を検出する補助焦点検出系141〜143と;主焦点検出系及び3つの補助焦点検出系からの出力信号、あるいは3つの補助焦点位置検出系からの出力信号に基づいて基板の平均的な面を算出する演算処理系とを備え;ステージ制御系は、演算処理系からの出力信号および主焦点検出系からの出力信号に基づきステージを移動させて、基板の平均的な面と投影光学系のパターン結像面とを整合させる。
請求項（抜粋）：
マスク上に形成されたパターンを投影光学系を介して感光性基板に投影露光する投影露光装置において、前記感光性基板を載置するステージと;前記投影光学系の光軸方向における前記投影光学系のパターン結像面と前記ステージに載置された前記感光性基板との相対位置を検出する主焦点検出系と;前記感光性基板の第1領域に形成された第1マークを検出する第1アライメント光学系と;前記感光性基板の第2領域に形成された第2マークを検出する第2アライメント光学系と;前記感光性基板の第3領域に形成された第3マークを検出する第3アライメント光学系と;前記3つのアライメント光学系からの出力に基づき前記感光性基板を保持するステージの位置を制御するステージ制御系と;前記第1アライメント光学系の光軸方向における前記第1アライメント光学系の被検面と前記ステージに載置された前記感光性基板との相対位置を検出する第1の補助焦点検出系と;前記第2アライメント光学系の光軸方向における前記第2アライメント光学系の被検面と前記ステージに載置された前記感光性基板との相対位置を検出する第2の補助焦点検出系と;前記第3アライメント光学系の光軸方向における前記第3アライメント光学系の被検面と前記ステージに載置された前記感光性基板との相対位置を検出する第3の補助焦点検出系と;前記主焦点検出系及び前記3つの補助焦点検出系からそれぞれ出力される出力信号、あるいは前記3つの補助焦点位置検出系からそれぞれ出力される出力信号に基づいて前記感光性基板の平均的な面を算出する演算処理系とを備え;前記ステージ制御系は、前記演算処理系からの出力信号および前記主焦点検出系からの出力信号に基づき前記ステージを移動させて、前記感光性基板の平均的な面と前記投影光学系のパターン結像面とを整合させることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 526 A
, G03F 7/207 H
, H01L 21/30 502 M
, H01L 21/30 516 B
