感放射線性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-253741
公開番号（公開出願番号）：特開平7-084360
出願日： 1993年09月16日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：

【要約】【構成】溶剤が炭素数5〜10のモノケトン化合物を含有する溶剤であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【効果】感度、解像度等に優れ、特に大口径化された基板へのスピンコート法による塗布性に優れており、また微細加工を安定的に行うことができ、保存安定性に優れ、良好なパターン形状を与えるレジスト被膜を形成する化学増幅型の感放射線性樹脂組成物として好適であり、i線等の紫外線、エキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のX線、電子線等の荷電粒子線といった、放射線のいずれにも対応でき、半導体デバイス製造用の感放射線性樹脂組成物として有利に使用できる。

請求項（抜粋）：

放射線照射により酸を発生させ、その酸の触媒作用による化学変化によって、放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成するレジストを、溶剤に溶解してなる感放射線性樹脂組成物において、該溶剤が炭素数5〜10のモノケトン化合物を含有する溶剤であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/038 505 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭61-141442
特開昭61-151643
特開平4-269754

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審査官引用 (15件)

特開昭61-141442
特開昭61-141442
特開昭61-151643

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