特許

J-GLOBAL ID：200903086337701830

高分子シートの製造方法およびこれを用いた高分子シート

発明者： 山森 善之 ,  大野 晋児
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-239718
公開番号（公開出願番号）：特開2003-048279
出願日： 2001年08月07日
公開日（公表日）： 2003年02月18日
要約：

【要約】【課題】 高度なガス・水蒸気バリア性を持つ光学用高分子シートを安価に製造できる方法、及びこうして得られた光学用高分子シートを用いた表示素子用基板および表示装置を提供する。【解決手段】 少なくとも基材(a)とガス・水蒸気バリア層と保護層を有する光学用高分子シートにおいて、200°Cでの熱変形量が1%以下の耐熱剥離用基材(b)上に保護層とガス・水蒸気バリア層または保護層とガス・水蒸気バリア層と密着層のみを形成した転写フィルムを基材(a)にラミネートすることによって成形されることを特徴とする光学用高分子シートであり、基材(a)にガス・水蒸気バリア層との密着性を高めるための密着層を塗工する事をも含む。

請求項（抜粋）：

少なくとも基材(a)とガス・水蒸気バリア層と保護層を有する高分子シートにおいて、200°Cでの熱変形量が10%以下の耐熱剥離用基材(b)上に保護層とガス・水蒸気バリア層のみを形成した転写フィルム(c)を基材(a)にラミネートした後に耐熱剥離用基材(b)のみを除去することによって成形することを特徴とする高分子シートの製造方法および高分子シート。

IPC (2件)：

B32B 27/00 ,  G09F 9/30 310

FI (2件)：

B32B 27/00 B ,  G09F 9/30 310

Fターム (54件)：

4F100AB01D ,  4F100AB02D ,  4F100AB10D ,  4F100AB17D ,  4F100AB33D ,  4F100AK01C ,  4F100AK25A ,  4F100AK41A ,  4F100AK42D ,  4F100AK49A ,  4F100AK49D ,  4F100AK51A ,  4F100AK55D ,  4F100AK56D ,  4F100AL01A ,  4F100AL05C ,  4F100AR00B ,  4F100AR00C ,  4F100AT00A ,  4F100AT00D ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EC18 ,  4F100EC182 ,  4F100EH23 ,  4F100EH232 ,  4F100EH46 ,  4F100EH462 ,  4F100EJ30 ,  4F100EJ302 ,  4F100GB41 ,  4F100JA04D ,  4F100JA05A ,  4F100JB13C ,  4F100JB14C ,  4F100JD02B ,  4F100JD04B ,  4F100JJ03D ,  4F100JL14D ,  4F100JN01 ,  4F100JN08 ,  4F100YY00A ,  4F100YY00D ,  5C094AA15 ,  5C094AA43 ,  5C094AA44 ,  5C094EB02 ,  5C094FA02 ,  5C094FB01 ,  5C094FB15 ,  5C094GB10 ,  5C094JA20