特許
J-GLOBAL ID:200903086340517277
プラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金山 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-285261
公開番号(公開出願番号):特開2001-110305
出願日: 1999年10月06日
公開日(公表日): 2001年04月20日
要約:
【要約】【課題】蛍光面を発光させた場合の輝度を高めることができる複雑な形状を有する隔壁の形成方法の提供。【解決手段】基板に感光性隔壁材料を全面塗工し第1隔壁材料層を形成し、マトリックスパターンのフォトマスクを介して露光し現像することにより横隔壁と縦隔壁の下層部分とを形成する。次に、基板に感光性隔壁材料を全面塗工し第2隔壁材料層を形成し、ストライプパターンのフォトマスクを介して露光し現像し縦隔壁の上層部分を形成する。そして、現像済みの横隔壁と縦隔壁の下層部分と縦隔壁の上層部分とを合わせて焼成することにより横隔壁と縦隔壁の全体を形成するプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法。
請求項(抜粋):
基板に感光性隔壁材料を全面塗工し第1隔壁材料層を形成する第1塗工過程と、横隔壁の下層部分と縦隔壁の下層部分とを形成するためのマトリックスパターンを有する第1フォトマスクを介して前記第1隔壁材料層を露光する第1露光過程と、前記露光済みの第1隔壁材料層を現像し前記基板に現像済みの横隔壁の下層部分と縦隔壁の下層部分とを形成する第1現像過程と、前記現像済みの横隔壁の下層部分と縦隔壁の下層部分とを形成した基板に感光性隔壁材料を全面塗工し第2隔壁材料層を形成する第2塗工過程と、横隔壁の上層部分と縦隔壁の上層部分とを形成するためのマトリックスパターンを有する第2フォトマスクを介して前記第2隔壁材料層を露光する第2露光過程と、前記露光済みの第2隔壁材料層を現像し前記横隔壁の下層部分と縦隔壁の下層部分の上に現像済みの横隔壁の上層部分と縦隔壁の上層部分とを形成する第2現像過程と、前記現像済みの横隔壁の上層部分と縦隔壁の上層部分および横隔壁の下層部分と縦隔壁の下層部分とを合わせて焼成し前記基板に焼成済みの横隔壁の全体と縦隔壁の全体とを形成する焼成過程と、を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法。
IPC (4件):
H01J 9/02
, G09F 9/30
, G09F 9/313
, H01J 11/02
FI (5件):
H01J 9/02 F
, G09F 9/30
, G09F 9/30 B
, G09F 9/313 A
, H01J 11/02 B
Fターム (20件):
5C027AA09
, 5C040GF03
, 5C040GF12
, 5C040GF13
, 5C040GF14
, 5C040GF19
, 5C040JA15
, 5C040JA21
, 5C040KA16
, 5C040LA11
, 5C040MA03
, 5C094AA10
, 5C094BA31
, 5C094BA32
, 5C094CA19
, 5C094CA24
, 5C094EA04
, 5C094EA05
, 5C094EA07
, 5C094GB10
引用特許: