特許

J-GLOBAL ID：200903086350916463

プラズマ処理装置被処理基板固定方法

発明者： 藤川 道夫
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-134046
公開番号（公開出願番号）：特開平5-326451
出願日： 1992年05月27日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：

【要約】【目的】 本発明は,プラズマ処理装置内の被処理基板の固定方法に関し,プラズマ処理中に,発生したプラズマが被処理基板の背面に回り込まない方法を得ることを目的とする。【構成】 基板ホルダ2内に設けた真空排気管3により, 該被処理基板1の背面を, プラズマが発生しない真空度領域で吸着保持するように,また,真空吸着保持に加えて, 静電チャック4を併用するように構成する。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理装置内の被処理基板(1) の固定方法であって,基板ホルダ(2) 内に設けた真空排気管(3) により, 該被処理基板(1) の背面を,プラズマが発生しない真空度領域で吸着保持することを特徴とするプラズマ処理装置基板固定方法。

IPC (4件)：

H01L 21/302 ,  H01L 21/68 ,  B23Q 3/08 ,  B23Q 3/15