特許
J-GLOBAL ID:200903086378850131
台形パターン描画方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井島 藤治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-333439
公開番号(公開出願番号):特開平5-166704
出願日: 1991年12月17日
公開日(公表日): 1993年07月02日
要約:
【要約】【目的】 描画の速度を遅くすることなく、台形パターンの斜辺部分も精度良く描画することができる台形パターン描画方法を実現する。【構成】 台形パターンを縦の長さがa、横の長さがbの矩形状の小区画に分割し、小区画間の荷電粒子ビームの偏向は高精度のDA変換器に接続された主偏向器を用いて行い、小区画内は高速のDA変換器に接続された副偏向器によって偏向して台形パターンの描画を行うようにし、台形の斜辺部分の小区画の横方向の長さを、台形の斜辺の角度θと小区画の縦の長さaとから、nを整数とした場合、(n-0.5)a・ tanθに応じて短くした。
請求項(抜粋):
台形パターンを縦の長さがa、横の長さがbの矩形状の小区画に分割し、小区画間の荷電粒子ビームの偏向は高精度の主偏向器を用いて行い、小区画内は高速の副偏向器によって偏向して台形パターンの描画を行うようにした台形パターン描画方法において、台形の斜辺部分の小区画の横方向の長さを、台形の斜辺の角度θと小区画の縦の長さaとから、nを整数とした場合、(n-0.5)a・ tanθに応じて短くしたことを特徴とする台形パターン描画方法。
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